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净化原理
        废气在设备内通过特定能量的光照射,光敏半导体材料被光激发出电子 - 空穴对。吸附于材料表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生电子或空穴,发生系列氧化还原反应,使污染物降解为二氧化碳、水等物质。在外加紫外线作用下,介质放电产生大量携能电子,轰击污染物分子使其电离、解离、激发,引发复杂物理化学反应,将大分子污染物转化为小分子安全物质,实现降解去除。少量未被裂解的污染物进入活性炭吸附床,有机污染物被吸附于活性炭微孔,最终排出洁净气体。
规格参数表

 
产品性能
除臭性能好:可除去挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等污染物及恶臭味,脱臭性能符合 GB14554-93 恶臭污染物排放标准。
工况适应性强:可适配中高浓度、大气量、多组分恶臭气体的脱臭净化,支持 24 小时连续运行,运行状态稳定。
运行成本低:设备无机械运动部件、噪音低,无需专人值守,仅需定期巡检;能耗与风阻均较低,可降低排风系统动力消耗。
预处理要求低:恶臭气体无需加温、加湿等特殊预处理,工作环境温度 - 30℃~95℃、湿度 40%~98% 范围内可正常运行。
结构紧凑:设备占地面积小、自重较轻,适用于场地受限、布置紧凑的工况。
材质可靠:采用耐腐蚀、阻燃性能良好的材料制造,结构稳定,使用寿命长。
环保性能优:经试验验证,可分解恶臭气体中有毒有害物质,脱臭效果满足合规排放要求,分解后气体可实现无害化排放,可减少二次污染风险,兼具良好的消毒杀菌功能。