净化原理

        废气在设备内通过特定能量的光照射，光敏半导体材料被光激发出电子 - 空穴对。吸附于材料表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生电子或空穴，发生系列氧化还原反应，使污染物降解为二氧化碳、水等物质。在外加紫外线作用下，介质放电产生大量携能电子，轰击污染物分子使其电离、解离、激发，引发复杂物理化学反应，将大分子污染物转化为小分子安全物质，实现降解去除。少量未被裂解的污染物进入活性炭吸附床，有机污染物被吸附于活性炭微孔，最终排出洁净气体。

规格参数表

产品性能

除臭性能好：可除去挥发性有机物（VOC）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等污染物及恶臭味，脱臭性能符合 GB14554-93 恶臭污染物排放标准。

工况适应性强：可适配中高浓度、大气量、多组分恶臭气体的脱臭净化，支持 24 小时连续运行，运行状态稳定。

运行成本低：设备无机械运动部件、噪音低，无需专人值守，仅需定期巡检；能耗与风阻均较低，可降低排风系统动力消耗。

预处理要求低：恶臭气体无需加温、加湿等特殊预处理，工作环境温度 - 30℃～95℃、湿度 40%～98% 范围内可正常运行。

结构紧凑：设备占地面积小、自重较轻，适用于场地受限、布置紧凑的工况。

材质可靠：采用耐腐蚀、阻燃性能良好的材料制造，结构稳定，使用寿命长。

环保性能优：经试验验证，可分解恶臭气体中有毒有害物质，脱臭效果满足合规排放要求，分解后气体可实现无害化排放，可减少二次污染风险，兼具良好的消毒杀菌功能。